Speakers
Путинцев И.Д.
(Магистратура, 1 курс)
Сотников О.З.
(Научный руководитель)
Description
В докладе представлено влияние магнитной стенки заднего фланца высокочастотного (ВЧ) плазменного эмиттера на получение пучка в мощном поверхностно-плазменном источнике отрицательных ионов водорода. Определены критерии эффективного удержания плазмы с помощью магнитной стенки. Получен пучок ОИ с током до 1,4 А при мощности на выходе ВЧ генератора 40 кВт. Продемонстрировано повышение эффективности генерации пучка ОИ на 33% в широком диапазоне мощности ВЧ генератора.
