BEGIN:VCALENDAR
VERSION:2.0
PRODID:-//CERN//INDICO//EN
BEGIN:VEVENT
SUMMARY:Способ изготовления LIGA-шаблонов на 
 основе танталовой фольги
DTSTART;VALUE=DATE-TIME:20200713T133900Z
DTEND;VALUE=DATE-TIME:20200713T134000Z
DTSTAMP;VALUE=DATE-TIME:20260419T142629Z
UID:indico-contribution-1837@indico.inp.nsk.su
DESCRIPTION:Speakers: александр генцелев ()\nА.Н. Ге
 нцелев1\, Ф.Н. Дульцев2\,3  \n\n1 Институт ядер
 ной физики им. Будкера Сибирского отделе
 ния Российской академии наук\, 630090\, Ново
 сибирск\, просп. Академика Лаврентьева\, 1
 1\n2 Новосибирский государственный униве
 рситет\, 630090\, Новосибирск\, ул. Пирогова\, 
 2 \n3 Институт физики полупроводников им. 
 А.В. Ржанова Сибирского отделения Россий
 ской академии наук (ИФП СО РАН)\, 630090\, Нов
 осибирск\, просп. Академика Лаврентьева\,
  13\n\nОписаны конструкция и способ изгото
 вления высококонтрастных самонесущих п
 ерфорированных (со сквозными отверстиям
 и) сеточных LIGA-шаблонов\, используемых в 
 рентгеновском диапазоне длин волн λ ≈ 0\,
 5÷3Å. Способ основан на плазмохимическом 
 сквозном травлении танталовой фольги че
 рез металлическую алюминиевую маску\, сф
 ормированную на поверхности фольги поср
 едством фотолитографии. Шаблоны предназ
 начены для формирования толстых резисти
 вных масок толщиной 250-1000 мкм\, в частност
 и\, из негативного резиста SU-8\, что позвол
 ит создавать толстые планарные металлич
 еские микроструктуры\, предназначенные 
 для управления потоками электромагнитн
 ого излучения терагерцевого диапазона.\n
     В качестве исходной заготовки LIGA-шабл
 она использовалась танталовая фольга то
 лщиной 30 мкм и диаметром ~80 мм. Заготовка 
 шаблона проводилась через следующую пос
 ледовательность операций:\n1.	Напыление н
 а рабочую поверхности заготовки тонкого
  (толщиной ~ 1\,5 мкм) слоя алюминия (Al).\n2.	Фо
 рмирование резистивной маски на рабочей
  поверхности заготовки посредством конт
 актной фотолитографии из позитивного ре
 зиста SPR 220 (7.0).\n3.	Жидкостное травление ал
 юминия через резистивную маску и удален
 ие остатков резистивной маски.\n4.	Плазмо
 химическое травление тантала через алюм
 иниевую маску на глубину 30 мкм.\n\nДоклад 
 содержит СЭМ-фотографии\, иллюстрирующи
 е как процесс изготовления LIGA-шаблона. П
 о результатам работы оформлен и получен 
 патент RU №2721172 на изобретение: «Способ и
 зготовления самонесущего рентгеношабло
 на» / Генцелев А.Н.\, Дульцев Ф.Н. - Опубл. в 
 Б.И.\, 2020\, №14.\n\nПри выполнении работы исп
 ользовалась инфраструктура Центра колл
 ективного пользования «Сибирский центр 
 синхротронного и терагерцового излучен
 ия (СЦСТИ) на базе накопительного компле
 кса ВЭПП-3/ВЭПП-4М ИЯФ СО РАН\, поддержанно
 го Министерством образования и науки РФ 
 (проект RFMEFI62117X0012).\n\nКлючевые слова: глуб
 окая рентгеновская литография\, плазмох
 имическое травление\, LIGA-технология\, мик
 роструктуры\, квазиоптические фильтры\, 
 терагерцовый диапазон.\n\nАлександр Нико
 лаевич Генцелев\,\n630090\, Новосибирск\, про
 спект ак. Лаврентьева\, 11\nЕ-mail: ang1209@mail.ru\;  
 Тел.: (383) 329-41-38\n\nhttps://indico.inp.nsk.su/event/24/contributio
 ns/1837/
LOCATION:
URL:https://indico.inp.nsk.su/event/24/contributions/1837/
END:VEVENT
END:VCALENDAR