Speaker
Alexander Soloviev
(IAP RAS)
Description
Обсуждается комплекс исследований, проводимых в ИПФ РАН в рамках проекта разработки перспективного ЭУФ литографа на 11,2 нм на основе характеристического излучения струи ксенона под действием импульсов твердотельной лазерной системы. Рассматривается общая концепция литографа и ключевые аспекты, обеспечивающие технологическое преимущество по сравнению с наиболее продвинутым конкурентом. В частности, представлена принципиальная архитектура лазерного источника; исследуются вопросы формирования газовой струи и калибровки профиля ее концентрации; представлены результаты экспериментального и теоретического исследования ионизационной динамики.
Primary authors
Alexander Soloviev
(IAP RAS)
Mr
Сергей Перевалов
(ИПФ РАН)
Илья Абрамов
(ИПФ РАН)
Иван Кузнецов
(ИПФ РАН)
Евгений Блинов
(ИПФ РАН)
Андрей Нечай
(ИФМ РАН)
Александр Перекалов
(ИФМ РАН)
Валения Гусева
(ИФМ РАН)
Сергей Голубев
(ИПФ РАН)
Олег Палашов
(ИПФ РАН)
Иван Мухин
(ИПФ РАН)
Михаил Стародубцев
(ИПФ РАН)
Николай Чхало
(ИФМ РАН)
